Qui factores ad ratem usus pulveris obductionis laseris celeris pertinent?
Technologia obductionis laseris celeris magnopere progressa est. Studium efficaciae processus augendae et sumptus processus minuendi infinitum est. Quomodo sumptus processus minuere pergere adhuc magni momenti est in investigatione obductionis laseris celeris.
Cum sumptus pulveris 80%-90% totius sumptus obductionis lasericae constituat, emendatio usus pulveris est problema technicum grave in obductione laserica celerrima solvendum. Quapropter, investigandum est qui factores ad usum pulveris obductionis lasericae celerrimae pertinent. Hos factores singillatim tractabimus et modum usus pulveris obductionis lasericae celerrimae emendandi discutiemus.
(1) magnitudo maculae piscinae liquefactae
Primus factor qui ratem usus pulveris laseris celeris ad obductionem metallicam afficit est magnitudo maculae lacus liquefacti, id est, magnitudo maculae laseris in superficiem substrati cadentis. Secundum potentiam laseris, macula lacus lacus laseris celeris inter 1 mm et 5 mm eligi potest. In opere reali, necesse est magnitudinem aptam maculae lacus sudurae secundum potentiam laseris instrumenti eligere.
Macula lacus liquefacti nimis parva est et ratio usus pulveris humilis; macula lacus liquefacti nimis magna est, et planities superficiei obductionis minuitur. Augmentatio maculae lacus liquefacti rationem usus pulveris augere potest, sed si macula lacus liquefacti nimis magna est, planities obductionis minuetur, ita processus subsequens triturae et politurae etiam pulveris iacturam causabit. Etiam in obductione laserica celerrima, ratio usus pulveris non solum in processu obductionis considerari potest, sed ratio usus comprehensiva pulveris post trituram et polituram in toto processu obductionis.
(2) diameter foraminis exitus pulveris capitis obductionis
Diameter foraminis exitus pulveris capitis obturamenti crassitudinem fluxus pulveris determinat. Quo minor foramen, eo subtilior fluxus pulveris, sed quo subtilior fluxus pulveris, eo celerior dispersio fluxus pulveris. In opere actuali, diameter foraminis exitus pulveris aptus eligendus est secundum altitudinem obturamenti et magnitudinem maculae piscinae liquefactae, ut diameter maculae pulveris in superficie substrati minor sit diametro maculae piscinae liquefactae, alioquin pulvis ultra magnitudinem maculae piscinae liquefactae peribit et iactura erit.
(3) vis laserica
Vis laseris satis magna esse debet ut pulvis in locum piscinae liquefactae cadens plene liquefieri possit. Cum quantitas pulveris immissa et alii parametri constantes sint, quo maior vis laseris, eo maior ratio usus pulveris.
(4) magnitudo pulveris alimentationis
Cum vis laserica instrumenti determinatur, quo minor pulveris copia immissa, eo maior pulveris utilitas. Attamen, diminutio pulveris copiae efficientiam obductionis afficiet. Si efficientia obductionis non consideratur, pulveris utilitas ad 100% pervenire potest per moderationem quantitatis pulveris copiae, sed haec praxis inanis est.
(5) celeritas linearis obductionis
Velocitas linearis obductionis laseris celeris pluries vel etiam decies maior est quam celeritas obductionis laseris ordinariae. Cum celeritas motus relativa inter substratum vel caput obductionis magna est, energia cinetica particularum pulveris in superficie substrati magna est, ita ejectio pulveris magna est et ratio utilizationis pulveris minuetur. Praeterea, cum potentia laseris determinatur, quo maior celeritas motus relativa inter caput obductionis et substratum, eo inferior temperatura piscinae liquefactae, et eo inferior ratio utilizationis pulveris.
(6) volumen materiae
Eisdem parametris obductionis metallicae, quo maior diameter (volumen) materiae, eo minor ratio utilizationis pulveris. Hoc fit quia, cum volumen magnum est, energia laseris magis a matrice absorbetur, et temperatura piscinae liquefactae non satis alta est. Ergo, pro materiis magni voluminis, necesse est apparatum obductionis metallicae maioris potentiae adhibere ad rationem utilizationis pulveris emendandam.
(7) magnitudo particularum pulveris
Pulvis obductionis laseris celeris breve tempus interactionis cum luce habet, itaque necesse est pulverem cum magnitudine particularum apta pro magnitudine potentiae laseris eligere. Magnae particulae pulveris impedient ne pulvis intra tempus definitum liquescat, quod iacturam per ejectionem sparsurae efficit.
Septem factores principales supra memorati sunt qui ratem usus pulveris laseris celeris ad obductionem metallicam applicandam afficiunt. Ut ratio usus pulveris augeatur et sumptus processus obductionis metallicae minuantur, necesse est parametros technicos ferramentae et parametros processus obductionis aptos eligere secundum condiciones specificas instrumentorum et materiae obductionis.
Hic iterum, inculcatur ut ratio usus pulveris rationem usus pulveris totius processus processus, potius quam rationem usus pulveris simplicis processus obductionis, considerare debeat. Ratio usus pulveris obductionis laseris ordinariae ad 100% pervenire potest, sed ratio usus pulveris completa saepe minor quam 50% est.
Tempus publicationis: XXIV Augusti MMXXII