Yüksek verimli ve yüksek hassasiyetli bir kaynak teknolojisi olan plazma kaynağı, havacılık, otomotiv üretimi, enerji ve diğer alanlarda yaygın olarak kullanılmaktadır. Gaz seçimi, plazma kaynağının kalitesi ve verimliliği üzerinde önemli bir etkiye sahiptir. Bu makalede, plazma kaynağında kullanılan yaygın gazlara ve uygulamalarına derinlemesine bir bakış atacağız.
Plazma kaynak gazlarına genel bakış
Plazma kaynaklama, kaynak için ısı kaynağı olarak yüksek sıcaklıkta plazma arkı kullanır. Plazma kaynaklamada gaz, plazma arkı oluşumunda, erimiş havuzun korunmasında, kaynaklama sürecinin kararlılığında ve diğer birçok rolde rol oynar. Yaygın olarak kullanılan plazma kaynak gazları şunlardır:
Argon (Ar): argon en yaygın kullanılan plazma kaynak gazıdır. Düşük iyonlaşma potansiyeli, ark kararlılığı, iyi koruma vb. avantajları vardır, çoğu metal malzeme kaynağına uygulanabilir.
Helyum (He): Helyumun iyonlaşma potansiyeli argondan daha yüksektir ve daha yüksek sıcaklığa ve daha yüksek enerji yoğunluğuna sahip bir plazma arkı oluşturur. Helyum kalın levhaların, yüksek erime noktalı metallerin ve daha fazla füzyon derinliğinin gerektiği yerlerin kaynaklanması için uygundur.
Hidrojen (H₂): Hidrojen, oksitleri etkili bir şekilde gideren ve kaynak kalitesini artıran indirgeyici özelliklere sahiptir. Kaynak hızını artırmak ve kaynak oluşumunu iyileştirmek için genellikle az miktarda hidrojen (%2-5) argonla karıştırılır.
Karışık gaz:Kaynak malzemesi ve proses gereksinimlerine göre en iyi kaynak sonuçlarını elde etmek için argon, helyum, hidrojen farklı oranlarda karıştırılabilir.
Gaz Seçimi ve Uygulaması
Malzemeler: Farklı malzemelerin kaynak gazları için farklı gereksinimleri vardır. Örneğin, alüminyum ve alaşımları genellikle saf argon veya argon-helyum gaz karışımı ile kaynaklanır, paslanmaz çelik kaynakta argon, argon-hidrojen gaz karışımı vb. kullanılabilir.
Kalınlık: İnce sac kaynakları için genellikle saf argon kullanılırken, yeterli füzyon derinliği elde etmek için kalın sac kaynakları için helyum veya argon-helyum gaz karışımları gerekebilir.
Kaynak Hızı: Ar-He gaz karışımları kaynak hızını arttırır ve hızlı kaynak yapılması gereken durumlarda kullanılır.
Kalite Gereksinimleri: Yüksek kaynak kalitesinin istendiği durumlarda Ar-He gaz karışımları veya az miktarda hidrojen içeren gaz karışımları kullanılabilir.
Plazma kaynak gazı geliştirme eğilimi
Plazma kaynak teknolojisinin sürekli gelişmesiyle birlikte gazın saflığı, karışım oranı, akış kontrolü ve diğer yönler daha yüksek gereksinimlere sahip hale geldi. Gelecekte plazma kaynak gazları aşağıdaki yönlerde gelişecektir:
Yüksek saflıkta gaz: Gazın saflığının artırılması kaynak kusurlarının azaltılmasına ve kaynak kalitesinin artırılmasına yardımcı olacaktır.
Hassas karıştırma: Kaynak işleminin daha hassas bir şekilde kontrol edilebilmesi için karışık gazların oranının hassas bir şekilde kontrol edilmesi.
Akıllı Kontrol: Sensörler ve akıllı algoritmalar kullanılarak gerçek zamanlı izleme ve gaz akışının ve bileşiminin akıllı bir şekilde ayarlanması gerçekleştirilir.
Çözüm
Plazma kaynak gazının seçimi ve uygulanması doğrudan kaynak kalitesini ve verimliliğini etkiler. Farklı gazların özelliklerinin ve uygulamalarının derinlemesine anlaşılması ve gerçek kaynak ihtiyaçlarıyla birleştirilmesiyle, uygun gazın seçimi, çeşitli endüstrilerin yüksek kaliteli kaynak ihtiyaçlarını karşılamak için plazma kaynak teknolojisinin geliştirilmesini teşvik etmeye yardımcı olacaktır.
Gönderi zamanı: 07-Haz-2024